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熊蓋站  -> 聊天哈啦 -> 時事新聞  -> 【資訊】台積電強調:450mm晶圓和EUV技術很重要

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andy6989


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 【資訊】台積電強調:450mm晶圓和EUV技術很重要

在半導體芯片代工行業,台積電毫無疑問是老大,他們對半導體技術的追求絕對補遜色於IBM、英特爾等企業。有來自Xbit-labs的消息稱,日前台積電再度強調,450mm晶圓以及EUV光刻技術非常重要,就算10nm製程產品用不上,也是發展7nm製程必須用上的。

  根據台積電的安排,他們將在2016年到2017試產450mm晶圓,而2018年則進入商業化生產。至於對應的製程工藝則應該為解釋已經較為成熟的10nm或者是剛剛進入投產階段的7nm。

  至於EUV光刻技術,按照ASML目前已經試產6台的NXE:3100 EUV光刻系統的來說,使用11W光源則每小時最多產出7塊晶圓。同時有實驗數據證明,如果可以換成採用30W光源的NXE:3300B系統的話,每小時最高的晶圓產量將提升至18塊。而ASML的目標則是實現105W光源下每小時69塊晶圓,並在2014年投入商用。

  台積電老大張忠謀表示,EUV光刻技術以及450mm晶圓對降低產品成本有很大作用,就算10nm工藝用不上,也必須在7nm製程中使用。而按照目前業界的消息來看,英特爾已經計劃在10nm工藝中引進450mm晶圓,想來台積電也不會落後多少。


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發表於:2012-10-27 05:01

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